| 
            エガシラ ヤスユキ
           江頭 靖幸 所属 工学部 応用化学科 職種 教授  | 
      |
| 言語種別 | 日本語 | 
| 発行・発表の年月 | 1996 | 
| 形態種別 | 学術論文 | 
| 標題 | DMSC法を用いたCVDステップカバレッジシミュレーションの高速化 | 
| 執筆形態 | 共著 | 
| 掲載誌名 | 日本機械学論文集(1996) | 
| 巻・号・頁 | 62-601B,3323-3329頁 | 
| 著者・共著者 | 立田 真一、佐藤 裕輔、玉置 直樹、江頭 靖幸、小宮山 宏 | 
| 概要 | 副筆 CVD(化学気相成長)法における基板の凹凸への製膜速度分布を予測するモンテカルロシミュレーションでは、一つの分子の壁面への衝突、反射、運動をトレースし、表面反応によって壁面に付着し膜となる過程をシミュレーションする。この研究では付着量が分圧にも比例していることに注目し、付着しなかった衝突も付着回数にカウントすることで、一回のトレース当たりの付着分子数を増し、同じ計算量で高精度の製膜速度分布の計算が可能であることを示した。  |