ニシオ カズユキ
西尾 和之 所属 工学部 応用化学科 職種 教授 |
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言語種別 | 日本語 |
発行・発表の年月 | 2010/03 |
形態種別 | 学術論文 |
査読 | 査読あり |
標題 | Optimization of etching conditions for site-controlled tunnel pits with high aspect ratios in Al foil. |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | J. Electrochem. Soc. |
概要 | 副筆 マスキングフィルムをAl箔の表面に形成する手法でトンネルピットの規則配列が得られるたが,ピットのテーパー形状に対応させてエッチング条件を最適化することにより,形状が制御された深いトンネルピットを形成することが可能となった. |