|
エガシラ ヤスユキ
江頭 靖幸 所属 工学部 応用化学科 職種 教授 |
|
| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 1993 |
| 形態種別 | 学術論文 |
| 標題 | Existence of Extinction Temperature in WSix Film Growth from WF6 and SiH4: An Indication of the Role Played by Radical Chain Reactions |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Appl. Phys. Lett. |
| 巻・号・頁 | 62,pp.1606-1608 |
| 著者・共著者 | T.Saito, Y.Shimogaki, Y.Egashira, H.Komiyama, Y.Yuyama, K.Sugawara, S.Nagata, K.Takahiro and S.Yamaguchi |