ナカハライ シュウ
中払 周 所属 工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
|
言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 2003 |
形態種別 | 国際会議論文 |
査読 | 査読あり |
標題 | “Fabrication of SiGe-on-insulator substrates for high-performance strained SOI-MOSFETs by Ge-condensation technique” |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | 203rd Electrochemical Society Meeting |
掲載区分 | 国外 |
巻・号・頁 | pp.305 |
著者・共著者 | T. Tezuka, N. Sugiyama, T. Mizuno, S. Nakaharai, S. Takagi, |