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エガシラ ヤスユキ
江頭 靖幸 所属 工学部 応用化学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 1996 |
| 形態種別 | 学術論文 |
| 標題 | Control of Selective Tungsten Chemical Vapor Deposition by Monolayer Nitridation of Silicon Surface |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | J. Electrochem. Soc. |
| 巻・号・頁 | 143,pp.L38-40 |
| 著者・共著者 | S.Takami, T.Saito, M.Fujii, Y.Egashira and H.Komiyama |