ナカハライ　シュウ   中払　周    所属   工学部 電気電子工学科    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	2005
形態種別	国際会議論文
査読	査読あり
標題	“A new strained-SOI/GOI dual CMOS technology based on local condensation technique”
執筆形態	共著
掲載誌名	2005 Symposium on VLSI Technology (VLSI Symp.), Digest of Technical Papers
掲載区分	国外
巻・号・頁	pp.80
著者・共著者	T. Tezuka, S. Nakaharai, Y. Moriyama, N. Hirashita, E. Toyoda, N. Sugiyama, T. Mizuno, S. Takagi,
概要	被引用回数：30回