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エガシラ ヤスユキ
江頭 靖幸 所属 工学部 応用化学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 1998 |
| 形態種別 | 学術論文 |
| 標題 | The Effects of Gas-Phase Additives NH3, NO, and NO2 on SiH4/O2 Chemical Vapor Deposition |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | J.Electrochem.Soc. |
| 巻・号・頁 | 145(3),pp.1070-1075 |
| 著者・共著者 | Takahiro Takahashi, Katunori Hagiwara, Yasuyuki Egashira, and Hiroshi Komiyama |