タカギ　シゲユキ   高木　茂行    所属   工学部 電気電子工学科    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	2005/08
形態種別	学術論文
査読	査読あり
標題	Multiscale Analysis of Silicon Low-Pressure Chemical Vapor Deposition
執筆形態	共著
掲載誌名	Japanese Journal of Applied Physics
出版社・発行元	The Japan Society of Applied Physics
巻・号・頁	44,pp.7855-7862
著者・共著者	Shigeru Kinoshita, Tetsuya Kai, Junichi Shiozawa, kunisuke Maki