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エガシラ ヤスユキ
江頭 靖幸 所属 工学部 応用化学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2006 |
| 形態種別 | 学術論文 |
| 標題 | Kinetic study of chemical vapor deposition of WSix films from WF6 and SiH2Cl2: Determination of molecular size and reactivity of gas species |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Thin Solid Films |
| 巻・号・頁 | 513,pp.36-42 |
| 著者・共著者 | Takeyasu Saito, Yukihiro Shimogaki, Yasuyuki Egashira, Katsuro Sugawara, Katsumi Takahiro, Shinji Nagata, Sadae Yamaguchi, Hiroshi Komiyama |