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エガシラ ヤスユキ
江頭 靖幸 所属 工学部 応用化学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 1992 |
| 形態種別 | 学術論文 |
| 標題 | Composition Change of SiCx (x=1-2) Films Due to Variation of Film Precursors in the Si2H6/C2H2 Chemical Vapor Deposition Reaction System |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Appl. Phys. Lett. |
| 巻・号・頁 | 61,pp.910-912 |
| 著者・共著者 | L.-S.Hong, Y.Shimogaki, Y.Egashiraand H.Komiyama |